爱上海

超净硅片表面化学清洗工艺的优化研究

本文档由 Thincreat 分享于2011-01-29 17:49

第17卷第5期 1996年5月 ? ? tt ^ & CHINESE JOURNAL OF SEMICONDUCTORS Vol. 17,No. 5 May,1996 超净硅片表面化学清洗工艺的优化研究 叶志镇姜小波袁骏李剑光 (浙江大学硅材料国家重点实验室杭州3100，，) 搁要本文采用正交试验设计法优化硅片化学 ...
文档格式：
.pdf
文档大小：
271.04K
文档页数：
6页
顶 /踩数：
0 /  0
收藏人数：
2
评论次数：
0
文档热度：
文档分类：
待分类
添加到豆单
文档标签：
清洗 硅片 化学 硅片清洗 硅片表面 清洗工艺 研究 表面 的研究 工艺
系统标签：
硅片 表面化学 清洗 优化 工艺 tongfang
下载文档
收藏
打印

扫扫二维码，随身浏览文档

手机或平板扫扫即可继续访问

推荐豆丁书房APP  

获取二维码

分享文档

将文档分享至：
分享完整地址
文档地址： 复制
粘贴到BBS或博客
flash地址： 复制

支持嵌入FLASH地址的网站使用

html代码： 复制

默认尺寸450px*300px480px*400px650px*490px

爱上海 支持嵌入HTML代码的网站使用

分享到